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Mikrolithographie-Datenanalysepaket, das Bossung-Typdatensätze, auch als Fokusbelichtungsmatrizen bezeichnet, anpassen kann. Schlagworte: Lithographie, Photolithographie, Photoresist, Prozessfenster, Kritische Dimension, CD, Bossung, FEM

VERSIONSVERLAUF

  • Version N/A veröffentlicht auf 2011-08-11
    Mehrere Korrekturen und Updates
  • Version N/A veröffentlicht auf 2011-08-11

Programmdetails